
TVF🄬の優れた温度制御性能 “±0.2℃以内で安定制御”
テイラー渦流式連続晶析・反応装置「TVF」は、優れた温度制御性能を備えています。
晶析プロセスでは、わずかな温度変化が粒径分布や結晶品質に影響を与えるため、反応槽の出口液温度を±0.5℃以内で安定的に制御することが重要です。

TVFでは、駆動部やシール部、さらには反応槽内のせん断に起因する発熱を抑制するため、
・±5μm以下の精密な回転軸精度による駆動部の発熱防止
・発熱しない独自設計のダブルメカニカルシール
・伝熱効率の高い外筒ジャケット構造
といった最高レベルの温度制御機能を備えています。
その結果、連続生産時における出口液温度の経時変化を、従来の約±2℃から大幅に改善し、±0.2℃の範囲で安定制御できることを確認しました。
この優れた温度制御機能が評価され、TVFは連続晶析やフロー合成プロセスで採用されています。




